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감광성 고분자는 대표적인
기능성 고분자 재료로서 각종 정밀 전자/정보 산업제품 생산에 실용화된 유기
감광재료인데, 현재의 발달된 첨단기술 산업에 중요하게 이용 됩니다. 감광성
고분자는 일반적으로 광 및 방사선 에너지의 작용으로 물리적·화학적 변화가 일어나는
고분자 조성물 또는 광조사에 의하여 고분자 물질로 형성되는 화합물의 조성물계를
지칭하여 말합니다. 미세형상 가공에 이용되는 포토레지스트(photoresist)는
현재의 고도로 발전한 인쇄와 반도체 및 전자·정보 산업의 중요한 소재이고 또한
광경화 표면 코팅 재료로 널리 사용됩니다. |
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당사에서 개발한 WSC 는 이러한 Photoresist
의 일종으로 매우 감도가 높은 특성을 가집니다. 그림
1 에서 보는 바와 같이 광원인 수은램프에서 발생되는 파장은 i-라인
(365nm), h-라인 (405nm), g-라인 (435nm) 등이 있는데
실제 칼라브라운관 등에서 쓰이는 감광제인 DAS는 이중 i-라인만을 흡수함으로서
매우 비효율적인 노광 공정입니다.
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이러한 문제를 해결하기 위해 미국특허 US6,610,791에서는
388nm에서 최대흡광을 나타내는 다음 그림
2 와 같은 로다닌 계열의 고분자를 사용하는 것을 제안하였습니다.그러나
이 고분자를 사용하여 감광액을 만들었을 때, 감도는 매우 높아지는 것으로 나타나지만
해상도가 기존에 DAS를 썼을 때와 비교하여 상당히 떨어져 매우 깨끗하지 못한
BM 라인으로 나타납니다.
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| 위디어에서는 문제점을 해결하기 위해, 감광성
물질로 400nm 이상에서도 흡광을 하는 물질로 그림
3 과 같은 화합물을 사용하여 이런 문제를 해결하였습니다. (특허
10-0728490 등록) |
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| 현재 이 물질은 국내 L사의 디스플레이용 BM 라인에 적용 중이며, 다른
여러 가지 photo공정에 응용을 추진하고 있습니다. |
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